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產品特點及用途

結合光學顯微鏡與白光干涉儀功能的掃描式白光干涉顯微鏡，結合顯微物鏡與干涉儀、不需要復雜光調整程序，兼顧

體積小、納米分辨率、易學易用等優(yōu)點，可提供垂直掃描高度達400um的微三維測量，適合各種材料與微組件表面特征

和微尺寸檢測。應用領域包含

晶體（Wafer）

光盤/硬蝶（DVD Disk/Hard Disk））

平面電組件（MEMS Components）

平面液晶顯示器（LCD）

高密度線路印刷電路板（HDI PCB））

IC封裝（IC Package））

以上其它材料分析與組件微表面研究

專業(yè)級的3D圖形處理與分析軟體（Post Topo）

提供多功能又具親和接口的3D圖形處理與分析

提供自動表面平整化處理功能

提供高階標準片的軟件自校功能

深度/高度分析功能提供線型分析與區(qū)域分析等兩種方式

線型分析方式提供直接追溯ISO定義的表面粗糙度（Rorghness）與起伏度

（waviness）的測量分析。可提供多達17種的ISO量測參數(shù)與4種額外量測數(shù)據(jù)（Wafer）

區(qū)域分析方式提供圖形分析與統(tǒng)計分析。

具有平滑化、銳化與數(shù)字過濾波等多種二維快速利葉轉換（FFT）處理功能。

量測分析結果以BMP等多種圖形檔案格式輸出或是Excel文本文件格式輸出

專業(yè)級的3D圖形處理與分析軟體（Post Topo）

系統(tǒng)硬件搭配ImgScan前處理軟件自動解析白光干涉條紋

垂直高度可達0.1nm

高度的分析算法則，讓你不在苦候測量結果

垂直掃描范圍的設定輕松又容易

有10X、20X、50X倍率的物鏡可供選擇

平臺XYZ位置數(shù)顯示，使檢標的尋找快速又便利

具有手動/自動光強度調整功能以取得最佳的干涉條紋對比。

具有高精度的PVSI與高速VSI掃描測量模式供選擇。

具有解析算法則可處理半透明物體的3D形貌。

具有自動布補點功能

可自行設定掃描方向

系統(tǒng)配備		顯微鏡、掃描控制器、移動平臺、取像單元、個人電腦
顯微鏡		單眼顯微鏡(標準配件)
干涉物鏡(選配)	放大率		10X   20X   50
	視野( mm)		0.5   0.25   0.1
	光學解析度(mm)		1.12  0.84   0.61
影像縮放		1.0X(標配)   0.5X（選配）
垂直掃描控制器	掃描范圍		100um   400um
	掃描解析度		0.1nm
	掃描模式		自動
	光強度調整		自動/手動
	掃描速度		12nm/s
樣品移動平臺	X、Y平面移動平面		150mm*100mm,手動(標準配件)
	Z軸移動平臺		80mm,手動(標準配件)
	位置數(shù)位顯示單元		三軸光學尺與三軸數(shù)位顯示器(解析度 1um)
	偏移調整平臺		手動
取像單元	影像感測量		面型CCD(標準配件)
	感測器解析度		640*480(標準配件)
電腦配置		Pentium-Computer ,17"LCD Monitor,120G以上硬盤
分析軟體		MS-Windows相容的資料擷取與分析軟體 包含ISO粗糙度/階高分析，快速薄利葉轉換和濾波，多樣的2D和3D觀測視角圖，外形分析，圖像縮放，標準影像檔案格式轉換等等
階高標準片(選配)		50nm	170nm	230nm	470nm	1800nm